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北方华创正式发布CCP介质刻蚀机,实现刻蚀工艺全覆盖

来源:IT之家 2022-08-15 14:52:14   阅读量:9606   

谢谢你把刺客从它家送来的线索!

据北方华创官方公告,今日,北方华创正式发布CCP介质蚀刻机,已在五家客户验证并量产此前,北方华创已经推出了ICP蚀刻机,金属蚀刻机等实现蚀刻过程的全覆盖

北方华创NMC508RIE介质蚀刻机采用8寸设备20年专为8英寸工艺设计的腔体和硬件满足定制要求,6amp8寸兼容,可实现快速切换,目前已在5家客户完成验证和量产,支持18年成熟的软件系统应用,以及稳定的备件系统,配备可靠的供应链,配备全套服务团队,可提供包括工艺开发,零部件供应,软件升级,质保服务等全方位保障

根据官方介绍,NMC508RIE介质刻蚀机具有刻蚀外观好,选择性高,前道工序工艺性能优异的特点,在后期过程中,金属副产物可以得到有效控制,维护周期长,采用多频射频技术具有刻蚀速率高,工艺均匀性好,工艺窗口大的特点,更能满足深孔小CD的应用和发展趋势在晶圆转移平台系统上,采用自主研发的通用平台,具有成熟的软件系统,具有晶圆自动对中的功能,以满足稳定的晶圆转移操作的要求在腔体设计上,采用独特的反等离子体点火结构和精确的电极温控设计,具有温度分区控制功能,并配备终点检测系统,满足均匀性,终点抓取等关键刻蚀工艺要求,颗粒性能良好使用寿命长,维护方便,能满足您低拥有成本和低消费成本的需求作为CCP刻蚀机,在介质刻蚀中具有高选择性和高刻蚀速率的优点,适用于介质氧化硅,氮化硅,氮氧化硅等薄膜材料可为客户提供包括逻辑器件,功率器件,化合物半导体等多种特殊工艺

伴随着NMC508RIE介质刻蚀机的推出,完成了国内设备技术在该领域的最后一个拼图,实现了北方华创在8寸刻蚀设备上的整体解决方案,包括硅刻蚀,深硅刻蚀,金属刻蚀,化合物半导体刻蚀等工艺设备。

北方华创还可以提供8寸设备包括PVD,CVD,ALD,炉管,清洗等,提供整体解决方案

大国重器国产蚀刻机:中国芯片燎原

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